东莞市仁睿电子科技有限公司是国内一批电子部件加工供应商。专注PMMA/PC材料注塑、渐变、加硬（硅化）、印刷、光学镀膜等整套工艺十五年。
光学镀膜技术:
原子层沉积
与蒸发沉积不同，用于原子层沉积(ALD)的源材料不需要从固体中蒸发出来，塑胶染色供应，而是直接以气体的形式存在。尽管该技术使用的是气体，真空室中仍然需要很高的温度。
在ALD过程中，塑胶染色，气相前驱体通过非重叠式的脉冲进行传递，且脉冲具有自限制性。这种工艺拥有独特的化学性设计，每个脉冲只粘附一层，并且对光学件表面的几何形状没有特殊要求。因此这种工艺使得我们可以高度的对镀层厚度和设计进行控制，但是会降低沉积的速率。
光学薄膜的特点是：表面光滑，膜层之间的界面呈几何分割，膜层的折射率在界面上可以发生跃变，但在膜层内是连续的，可以是透明介质，也可以是光学薄膜
吸收介质：可以是法向均匀的，也可以是法向不均匀的，实际应用的薄膜要比理想薄膜复杂得多，这是因为，制备时，薄膜的光学性质和物理性质偏离大块材料，塑胶染色厂家，其表面和界面是粗糙的，从而导致光束的漫散射，膜层之间的相互渗透形成扩散界面，塑胶染色厂，由于膜层的生长、结构、应力等原因，形成了薄膜的各向异性，膜层具有复杂的时间效应。
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